第10回 偏光計測研究会

第10回偏光計測研究会
偏光分野でご活躍の皆様

　 いつも偏光計測研究会のご支援をありがとうございます．

　日本光学会 偏光計測・制御技術研究グループでは，毎年1〜2回エリプソメトリーやポラリメトリーに代表される偏光を用いた計測技術および偏光関連技術に関しての議論と情報交換場として偏光計測研究会を開催しています．皆様のご支援のお陰でこの度，第１０回を迎えることが出来ました．今回，山形大工学部の横山大輔先生による「分光エリプソメトリーによる非晶質有機半導体薄膜の屈折率・密度・分子配向の分析（仮題）」や大阪大学の萩行正憲先生による「テラヘルツ領域における偏光現象とその測定」を中心とした招待講演を予定しています．また，一般講演として5件のエリプソメトリーを中心とした偏光計測および新規な偏光素を予定しております．講演会後は、物質・材料研究機構の偏光関連の研究室見学と懇親会を予定しています．多くの皆様のご参加をお待ちしております．

　当日申込も可能ですが，準備の都合上，下記の申込書で事前にお申し込み戴けますと幸いです．


日時：2014年９月１日月曜日 10：30～17：20
場所：独立法人物質・材料研究機構（NIMS）
並木共同研究棟４F大ゼミナール室

http://www.nims.go.jp/nims/office/tsukuba_namiki.html

参加費：無料
懇親会費：別途お知らせします．

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第10回偏光計測研究会 プログラム

午前の部
司会：　津留俊英（山形大学）

10:30-10:40 開会の挨拶　　物質・材料研究機構　板倉明子

10:40-11:30 【招待講演】 分光エリプソメトリーによる非晶質有機半導体薄膜の屈折率･密度･分子配向の分析
　　　　　　　　　　　 山形大学大学院理工学研究科　横山大輔

11:30-12:20 【招待講演】 テラヘルツ領域における偏光現象とその測定
　　　　　　　　　　　 大阪大学　萩行正憲

12:20〜13：30　昼食（NIMS食堂）


午後の部
司会　海老澤様瑞枝（東京都立産業技術研究センター）

13:30-13:55　 エリプソメトリーにおける観測窓の影響および補正
　　　　　　　　　 　　　山梨大学　○金 蓮花，近藤 英一

13:55-14:20　 分光エリプソメトリーによる酸化グラフェンの光学定数の膜厚依存性評価
　　　　　　　　　　　　埼玉大理工研 ○船田修司,　石川良,　上野啓司,　白井肇

14:20-14:45　 膜厚1.8±0.1nmシリコン熱酸化膜の不揮発性半導体メモリ実用化とエリプソメトリ
　　　　　　　　　　　　　　　　　イービーエル　 ○神垣良昭, 南眞一

14:45-15:10　 偏光カメラを用いた分光ストークス・イメージング偏光計
　　　　　　　　　　　　　　　　　宇都宮大学CORE　○柴田秀平，大谷幸利

15:10-15:35　 紫外域軸対称波長板によるベクトルビームの制御
　　　　　　　　　　　　　　　　　埼玉医科大学　若山俊隆

15:35-15:40 閉会の辞　　　　宇都宮大学CORE　大谷幸利

15:40-15:50 休憩

15:50-17:20 物質・材料研究機構　見学

17:45-19:45　 懇親会（つくば駅周辺）

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第１０回偏光計測研究会 参加申込書
締切：８月２５日(月)
psi-info(at)opt.utsunomiya-u.ac.jp 宛にお願いいたします。

●ご氏名：
●ご所属：
●ご連絡先
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＜懇親会＞
（場所 （つくば駅周辺），参加費（別途お知らせします））
　　 ご出席　・　ご欠席
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お問い合わせ
〒321-8585　栃木県宇都宮市陽東7-1-2
宇都宮大学オプティクス教育研究センター　大谷研究室内
日本光学会（応用物理学会）偏光計測・制御技術グループ　事務局
TEL&FAX 028-689-7136
email : psi-info(at)opt.utsunomiya-u.ac.jp